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邹世昌(关于邹世昌的介绍)

发布时间:2022-09-08 15:40:25巩芬贤来源:

导读大家好,今日蓉蓉来为大家解答以上的问题。邹世昌,关于邹世昌的介绍很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!1、邹世昌,1931年7月27日出...

大家好,今日蓉蓉来为大家解答以上的问题。邹世昌,关于邹世昌的介绍很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

1、邹世昌,1931年7月27日出生于上海市,材料科学家,中国科学院院士,中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员、博士生导师。

2、1949-1950年就读于中国纺织工学院(今东华大学)后转入唐山交通大学,1952年毕业于交通大学唐山工学院(即唐山交通大学,现西南交通大学)。

3、1958年获苏联莫斯科有色金属学院副博士学位。

4、历任中国科学院上海冶金研究所研究员、所长。

5、曾参加直空阀门甲种分离膜的研制,并担任工艺组负责人,该成果1984年获国家发明奖一等奖。

6、邹世昌在国内较早开展了离子束材料改性与离子束分析的研究工作。

7、在中国最早将离子注入应用于半导体集成电路,首先建立了离子背散射沟道技术,并应用于半导体材料及器件。

8、研究离子注入硅单晶的激光退火行为,离子注入多晶硅的激光再结晶,并研制成高CMOS器件。

9、2021年,邹世昌荣获“2021感动上海年度人物”。

本文到此结束,希望对大家有所帮助。

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