突破EUV光刻机封锁？新工厂正式扩建，或将专供中国市场

ASML 非常重视中国市场的前景，表示要加快中国市场布局。不过关注中国市场的不止ASML，还有日本的光刻机巨头佳能以及尼康。

其中佳能宣布扩产光刻机，新工厂正式扩建。佳能计划把光刻机产能提升两倍，利用NIL技术开发出下一代芯片制造设备。

值得一提的是，ASML也宣布扩产光刻机，谁能更胜一筹呢？佳能NIL技术能突破EUV光刻机封锁吗？

佳能宣布扩产光刻机

全球光刻机市场被ASML牢牢把持着，最顶级的EUV光刻机只有ASML能制造。

根据2021年全球光刻机销售数据可知，ASML掌握了全部的EUV光刻机销售额，ArFi和ArF光刻机也占据90%以上的市场份额。只有在KrF以及Line光刻机才有尼康，佳能的一席之地。

相对于尼康的光刻机市场水平，佳能才是ASML最大的竞争对手，去年佳能出货了140台光刻机。虽然大多数都属于中低端产品，但佳能想要改变局面，于是两项行动出炉了。

首先第一项行动：佳能要拿出500亿日元（约25亿人民币）扩建新工厂，将光刻机产能提升两倍。

其次第二项行动：计划用NIL技术进军高端芯片制造市场，和ASML同台竞技。

这两项行动一旦完成，那么佳能或许真的有可能提升整体的光刻机竞争实力，尤其是第二项。

佳能的NIL其实是一种纳米压印技术，这项技术是将三维结构的掩膜压在涂有光刻胶的晶圆表面。用“盖章”的方式实现芯片图案的复刻，省去了传统光刻机的曝光，掩膜显影等步骤，高端NIL设备与EUV光刻机形成对标。

不管是提升传统光刻机的产能，还是用NIL技术设备，佳能的目的很明确，那就是提升行业竞争力。既然如此，中国市场作为全球最大的芯片消费国和半导体设备销售国家，佳能多半会将产出的光刻机设备专供中国市场，在庞大的中国市场寻求更多的销售机会。

佳能，ASML纷纷扩产，谁能更胜一筹？

值得一提的是，ASML也宣布了光刻机扩产计划。根据ASML公布的消息，计划在2025年之后将EUV光刻机产能提升至90台，DUV光刻机600台，还有20台的High-NA EUV 光刻机。

在提升光刻机产能后，ASML 把2025年营收预期上调至300亿到400亿欧元，相较2021年的水准提升了一倍左右。

ASML作为全球最大的光刻机巨头，洞悉芯片制造行业的发展动向。目前全球芯片产能需求有所下滑，ASML却还是制定远大的产能目标，估计是对未来保持乐观态度。

问题是佳能和ASML都有扩产计划，谁能更胜一筹呢？

从市场的角度来看，ASML有更大的竞争优势，每一种型号的光刻机都是ASML占据出货排行榜首位。不过从客户的角度来看，估计更愿意选择多元化布局。

ASML的设备虽好，却容易受到规则限制。EUV光刻机至今无法实现自由出货，只能靠DUV光刻机维持市场运营。

所以ASML只能以DUV光刻机和佳能参与中国大陆市场竞争，因为不是最先进的设备，DUV光刻机的核心技术也掌握在佳能手中，完全有能力和ASML一较高下。谁能更胜一筹，估计ASML也没有绝对的把握能赢得订单。

佳能NIL技术能突破EUV光刻机封锁吗？

ASML独占EUV光刻机市场，不过ASML受制于规则无法实现自由出货，导致无法创造更大的销售额。而且台积电等客户有意关闭数台EUV光刻机以节约能耗，应对产能利用率下滑带来的挑战。

ASML恐怕会失去不少EUV光刻机订单，哪怕大幅提升产能也无济于事。

然而ASML做不了的生意被佳能盯上了，NIL技术或能突破EUV光刻机封锁。EUV光刻机被规则束缚，是因为大量使用了来自美国的技术，包括光源设备，硅基材料专利技术等等。还有德国的蔡司镜头，英国的腔体等等。

这些国家和美国站在一起，若没有美国的许可，ASML很难实现EUV光刻机自由出货的破冰。

但是日本佳能的NIL技术则不同，核心技术几乎都来自日本，佳能与铠侠等日企合作，一旦造出NIL设备，受制于规则的可能性较小。

所以从技术层面而言，突破EUV光刻机规则封锁并非不可能。当然，这些目前只是理论，哪怕佳能真的把NIL设备造出来了，别忘了日本与美国的关系，同时美国还在拉拢日本加入“芯片四方联盟”，若日本成为联盟的一员，佳能立场如何，估计也要打上问号。

写在最后

ASML和佳能都希望加大自由贸易合作，寻求中国大陆客户的订单。基于全球化发展本身并没有什么，只是作为外企的他们，同样身处复杂的市场环境中。要想展望遥远的未来，还是需要自己砥砺前行 。

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