pvd涂层（pvd）

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1、基本PVD方法：真空蒸发、溅射和离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、反应离子镀、射频离子镀和DC放电离子镀)。

2、电镀是利用电解原理在某些金属表面镀上一层薄的其他金属或合金的过程，是利用电解在金属或其他材料零件表面附着一层金属膜的过程，以防止金属氧化(如腐蚀)，提高耐磨性、导电性、反射性、耐腐蚀性(硫酸铜等)。)并提升外观。

3、PVD:物理气相沉积(Physical vapor deposition)3360是指利用物理过程实现材料转移，将原子或分子从源转移到衬底表面的过程。它的作用是将一些具有特殊性能的颗粒(高强度、耐磨、散热、耐腐蚀等。)可以喷涂在性能较低的基体上，使基体具有更好的性能。基本PVD方法：真空蒸发、溅射和离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、反应离子镀、射频离子镀和DC放电离子镀)。

4、PVD技术的出现在于所制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、良好的耐磨性和化学稳定性等优点。起初，在高速钢工具领域的成功应用引起了全世界制造业的关注。人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也对涂层在硬质合金和陶瓷刀具上的应用进行了更深入的研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度较低，在600以下对刀具材料的抗弯强度没有影响。薄膜的内应力状态为压应力，更适合涂覆硬质合金精密和复杂的工具。PVD过程对环境没有不良影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前，PVD涂层技术已广泛应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

5、PVD技术不仅提高了薄膜与工具基材的结合强度，而且涂层成分也从第一代TiN发展到TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiAlN、CNx、DLC、Ta-C等多元复合涂层

6、电镀：在电镀过程中，以被镀金属或其他不溶性物质为阳极，以被镀工件为阴极，被镀金属的阳离子在被镀工件表面被还原形成镀层。为了消除其他阳离子的干扰，使镀层均匀、牢固，需要使用含有镀层金属阳离子的溶液作为电镀液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上涂覆金属涂层，改变基材的表面性质或尺寸。电镀可以增强金属的耐蚀性(耐蚀金属多用于电镀)，增加硬度，防止磨损，提高导电性、光洁度、耐热性和表面美观。

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